УДК 519.72
СОЗДАНИЕ СТОЙКИХ МИКРОСХЕМ К ВОЗДЕЙСТВИЮ ТЯЖЕЛЫХ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ
CREATING PERSISTENT CHIPS TO THE EFFECTS OF HEAVY CHARGED PARTICLES
Зольников В.К., д.т.н., заведующий кафедрой
ФГБОУ ВПО «Воронежская государственная лесотехническая академия»
г. Воронеж, Россия
DOI: 10.12737/6178
Аннотация: Рассмотрены методы защиты микросхем от воздействия тяжелых заряженных частиц, реализованные на технологических платформах 350нм и 180нм..
Summary: Methods of protection circuits from the effects of heavy charged particles, implemented on technological platforms 350 nm and 180nm.
Ключевые слова: САПР, микросхема, тяжелые заряженные частицы.
Keywords: CAD, chip, heavy charged particles.
Известно, что первым этапом для применения методов зашиты от сбоев при проектирования сложных СБИС является выделение определенных функциональных блоков. Затем необходимо оценить имеющихся средств защиты с точки зрения не превышения ограничений [1-3].



